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真空镀膜机接纳差别的镀膜工艺，其自动化控制系统也不尽相同，纵然是相同的镀膜工艺，由于控制技术指标的差别，所接纳的控制系统也不尽相同。微机自动控制系统、自动控制装置、工业自动化仪表、压力控制仪、真空计及某些自动控制元件等一般镀膜设备的基本组成，可以实现对真空镀膜设备的程序自动控制、转换镀膜历程、调解真空工艺参数等基本功效。
对真空镀膜机的控制系统进行选型时，必须能有效地满足真空镀膜设备及其工艺对控制的需要，注意真空镀膜设备的种种结构与自动控制系统的配合，要求自动控制系统结构简单，本钱低，自动化水平纷歧定很高，但必须包管真空镀膜设备宁静可靠，使用便当，易于维护�？刂葡低扯宰远刂谱爸眉捌洳考⒆远潜淼难≡裼侠�。
负压镀膜是膜体在高温下蒸发到工件外貌的结晶。因为空气对蒸发的膜体分子会爆发阻力而与之爆发碰撞，使得结晶体变得粗糙而无光，因此必须在高真空下使结晶体爆发细密灼烁，如果真空度不高，结晶体就会失去光泽，结协力也很差。利用磁场，加速中频磁控溅射靶对膜体蒸发的分子进行轰击，溅射出大宗的目标原子，使中性目标原子(或分子)沉积在基底上，形成薄膜，解决了以往自然蒸发不可加工的膜体品种。由于高频高电流大，中频设备必须加入冷却水。当电流通过导体的时候，会爆发集肤效应，电荷会聚集在导电外貌，从而爆发发热，因此接纳中孔管做导体的中间加水冷却。
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