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1.4激光束蒸发源蒸发法
真空设备选取激光束蒸发源的蒸发技术是造备薄膜的梦想步骤。这是由于激光器能够装置在真空室表，这不仅简化了真空室内的空间
这种设置削减了加热源的放气，能够齐全预防蒸发器对镀膜资料的传染，从而达到薄膜纯度的主张。此表，激光加热能够极度高
一些合金或化合物能够通过激光束加热“急剧蒸发”。这对于确保膜的组成和预防膜的分馏或分化也极度有效。
然而，由于造作大功率陆续激光器的成本高，其利用领域有限，目前无法在工业上宽泛利用。
2.溅射涂膜
1842年格罗夫在尝试室发现了阴极溅射景象。他在钻研电子管阴极侵蚀时发现了阴极资料会向真空管壁迁徙的景象。从自1870年以来，溅射道理被利用于薄膜的造备，但在从前的100年里，溅射工艺的发展一向很慢。1940年后，溅射薄膜层压板被发现它拥有优异的机能，同时，各类改进溅射装置、提高溅射速度的新工艺相继出现并达到实用水平，使溅射技术得到了迅速发展宽泛利用于工业。所谓“溅射”，是指带电粒子轰击固体表表(靶)，使固体原子(或分子)从表表喷出的景象。喷出的大部门粒子都是原子状态，通常称为飞溅射原子。用于轰击靶的带电粒子可所以电子、离子或中等大幼的粒子。由于离子在电场作用下容易加快并获得所需的动能，所以大无数都是用离子作为轰击中粒子。这个粒子也叫入射离子。由于直接溅射的机理是离子，所以这种镀膜技术也被称为离子溅射镀膜或沉积。
真空镀膜的方式有好多种，其中有代表性的步骤有:
1) DC二极管溅射。结构单一，能够在大面积衬底上造作均匀的薄膜，放电电流随压力和电压的变动而变动；
2)三极或四极溅射Ｄ芄皇迪值脱购偷脱菇ι，轰击靶的放电电流和离子能量能够独立节造Ｄ芄唤谠彀械缌，也能够进行射频溅射。
3)磁控溅射(或高速低温溅射)。磁场以平行于指标表表的方向施加，并且使用正交电场和磁场的磁控管道理来削减电子对衬底的轰击
实现高速低温溅射；
4)对着靶溅射。两个靶材相对搁置，在垂直于靶材表表的方向施加磁场，能够高速低温溅射磁性资料；
5)射频溅射？⒂糜谠熳骶当∧，如氧化硅、氧化铝、玻璃薄膜等。、或溅射金属；
6)反映溅射。阴极资料复合膜，如氮化钛、碳化硅、氮化铝、氧化铝等。；
7)偏压溅射。在镀膜过程中，同时去除基板上的轻带电粒子，使基板不含不纯气体；
8)不合称互换溅射。在大振幅的半周期内溅射靶材，在幼振幅的半周期内用离子轰击衬底，去除吸附的气体，从而获得高纯度的薄膜；
9)离子束溅射。在高真空下，离子束溅射长短等离子体成膜过程。
10)吸气溅射。利用溅射粒子的吸杂效应能够去除不纯气体，获得高纯度的薄膜。
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